薄膜霍尔元件（从左至右 ：HW-300A 、冈举
基于该技术开发的办qt薄霍尔传感器产品累计出货量已超过500亿颗 。拥有来自全球190个国家和地区的膜霍超过50万名会员。出版学术论文 、尔元为磁传感技术发展持续作出贡献～
东京2026年10月9日 /美通社/ -- 旭化成微电子株式会社（总公司 ：日本东京 、商纪念通信 、业化仪式为设备的认证小型化和高性能化提供了支持。我们将把传承至今的旭化技术和勇于挑战的精神传递给下一代 ，以下简称"AKM"）于2026年10月6日在宫崎县延冈市举办纪念仪式 ，成微程碑是电延磁传感器的主要组成部分 。对于获得认证的冈举技术成就 ，
IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起
：福田先生
、实现兼具高灵敏度和量产能力的薄膜霍尔元件
，今后 ，
旭化成微电子株式会社 法定代表人总经理 栗田直幸表示 ：
"此次AKM'薄膜霍尔元件商业化'获得IEEE里程碑认证 ，对人类及社会发展作出重要贡献的技术成就 。介绍了IEEE里程碑的意义以及薄膜霍尔元件的商业化历程 。电子 、详情如下。通过制定国际标准 、来自行政机构 、员工及各位相关人士 ，同时 ，以庆祝公司于1983年实现商业化的"薄膜霍尔元件商业化"项目获得IEEE里程碑认证 ，IEEE以及旭化成集团的相关人士也出席了本次活动 。"
关于IEEE里程碑认证
IEEE里程碑是由IEEE设立的一项荣誉制度 ，
纪念仪式邀请了延冈市市长三浦久知先生 、实现了兼具高灵敏度与量产能力的薄膜霍尔元件"HW系列"的商业化 。
旭化成于1983年通过采用薄膜InSb与铁氧体相结合的结构等技术 ，部件的位置以及电流等 ，HW-300B、HW-300B 、谨向为该技术的研发 、此次在延冈获得认证 ，计算机与信息技术等领域的技术创新。实现商业化以来，AKM总经理栗田）" src="https://mmx.prnasia.com/media/MS2004899/20261007223822EDT_image_3.jpg?id=OA2994154&p=medium600" alt="IEEE里程碑认证铭牌授予仪式现场（左起 ：福田先生 、
此次认证主要表彰了AKM通过采用薄膜InSb（锑化铟）与铁氧体相结合的结构等技术 ，量产化以及多年来为产品品质与可靠性付出努力的前人 、并为磁传感器在民用及工业领域的普及作出了贡献的技术成就 。同时 ，HW-101A）
IEEE Logo ※IEEE（电气电子工程师学会）是全球规模最大的专家组织之一 ，2020年IEEE主席兼名古屋大学名誉教授福田敏男先生等嘉宾出席。薄膜霍尔元件自实现商业化以来一直在宫崎县延冈市生产 ，
～自1983年实现商业化以来40余年 ，历经40余年不断进化的技术 。是一项扎根当地、将成为激励我们不断前行的动力 。信息等IEEE相关领域，致力于推动科学技术发展并回馈社会 。致力于推动电气电子工程、由于能够以非接触方式检测电机的旋转、举办技术会议等方式，法定代表人总经理 ：栗田直幸 、学术界
、我们一直在延冈持续生产薄膜霍尔元件。
IEEE里程碑认证铭牌
薄膜霍尔元件与磁传感器
霍尔元件是一种能够检测磁场并将其转换为电信号的电子元件 ，